薄膜成長プロセスシミュレータ
概要
ガラス基盤などの明確な結晶構造を持たない基盤上での薄膜成長過程のナノスケールでのシミュレーション用ソフトウェア
基本となっているソフトウェア
特徴
- MBE、CVD、スパッタ法などによる薄膜成長過程のシミュレーションが可能
- エピタキシャル成長、ガラス基板等の非晶質構造をもつ基板上における、多結晶膜の成長過程に対応
- 薄膜成長過程のシミュレーションが可能
- ガラス基板等の非晶質構造をもつ基板上における、多結晶膜の成長過程に対応
- 多元系の成長過程の取り扱いが可能
- 各結晶粒ごとに膜厚分布の偏差を計算し、さらにその時間変化を調べることで、元素の供給率や基板温度などの成長条件と表面の粗さとの関係を、統計的に解析することが可能
- KMC法に基づくナノスケールのシミュレーション
- 金属表面上における金属元素の拡散に特有な、エッジ拡散の効果と、Ehrlich-Schwoebel 障壁の効果を導入
- 基板上を自由拡散する同種の原子２個が衝突した場所を基点に、３次元 格子がダイナミカルに 生成されるように、オブジェクト指向言語C++を使ってコードを作成
- 消費メモリーが100MB以下の軽いプログラムで、PCでも動作可能
動作環境
- ＯＳ：Windows、 Ｌｉｎｕｘ、 ＭａｃＯＳ Ｘ、ＵＮＩＸ
- ＣＰＵ：動作周波数１ＧＨｚ以上推奨
- メモリー：ＤＤＲ－ＳＤＲＡＭ ２５６ＭＢ以上推奨