| ファイル名 | アクション |
| simlib_magazine_1182.pdf |  |
| 発行年月 | 2025年7月3日 |
| タイトル | 半導体プロセス・デバイスシミュレータ Advance/TCADの改良 |
| 言語 | 日本語 |
| 著者 | 原田 昌紀 小瀬村 大亮 小山田 隆行 大倉 康幸 小田 嘉則 宮脇 綾我 |
| 著者所属 | アドバンスソフト株式会社 第 1 事業部 |
| 要約 | 世界的な半導体デバイスへの需要増加に対する産業界の半導体分野への投資に対応すべく、当社で自社開発している半導体のプロセス・デバイスシミュレータである Advance/TCAD について、ソルバーの機能や使い勝手の改良を行っている。本記事ではその改良の一部を紹介する。 |
| 書誌情報 | アドバンスシミュレーション 2025.7 Vol.32 |
| DOI | 10.69290/j.001182-vol32 |
| キーワード | 半導体、TCAD、プロセスシミュレーション、デバイスシミュレーション、イオン注入、デポジション、エッチング、MPI並列、メッシュ |
| ページ数 | 10 |