桜井　清吾　Shogo Sakurai

アドバンスソフト株式会社
主事研究員

学位

理学博士

略歴

1997年3月　静岡大学工学部電子工学科卒業
1999年3月　静岡大学大学院理工学研究科博士前期課程卒業
2002年3月　千葉大学大学院自然科学研究科博士後期課程卒業
2002年4月　株式会社計算力学研究センター
2006年3月　アドバンスソフト株式会社　研究員

学会

日本物理学会

業務・研究経歴

(1) 第一原理計算によるシリコン表面のエッチング機構の研究
(2) CALPHAD法に基づく熱平衡状態解析プログラムの技術サポート・コンサルティング及び受託解析
　(3) 汎用熱流体解析コードによる受託解析
　(4) 実空間差分法による第一原理計算コードの開発

発表論文

(1) S. Sakurai and Y. Nagano
“Combined techniques of Chemical Equilibrium Calculation and Computational Fluid Dynamics towards Complex Process Analysis”
Proc. 8th Japan International SAMPE Symposium, Vol.1, (2003) pp.633-636.

(2) S. Sakurai and T. Nakayama
“Electronic Structures and Etching processes of Chlorinated Si(111) surfaces”
Japanese Journal of Applied Physics, Vol.41, (2002) pp.2171-2175.

(3) S. Sakurai and T. Nakayama
“Adsorption, diffusion and desorption of Cl atoms on Si(111) surfaces”
Journal of Crystal Growth, Vol.237-239, Part 1, (2002) pp.212-216

(4) S. Sakurai and T. Nakayama
“Cl adsorption process on Si(111) surfaces”
Surface Science, Vol.493, (2001) pp.143-147.

(5) N. Fujima and S. Sakurai
“Magnetic Shells of Co Clusters”
Journal of the Physical Society of Japan, Vol.68, (1999) pp.586-593.